የሶዲየም ሲያናይድ አጠቃቀም ጊዜ የማጎሪያ ጥምርታ

መግቢያ

ሶዲየም ሲያናይድ (NaCN)፣ በጣም መርዛማ ሆኖም በኢንዱስትሪ ደረጃ ጠቃሚ የሆነ ውህድ፣ እንደ ወርቅ ማዕድን ማውጣት እና ኤሌክትሮፕላቲንግ ባሉ የተለያዩ ዘርፎች በስፋት ጥቅም ላይ ይውላል። በአጠቃቀም ጊዜ የትኩረት ጥምርታውን በትክክል መቆጣጠር የሂደቱን ውጤታማነት እና ደህንነት ለማረጋገጥ ወሳኝ ነው። ይህ ጽሑፍ በተለያዩ የአጠቃቀም ሁኔታዎች ውስጥ የሶዲየም ሲያናይድ የትኩረት ጥምርታዎችን ይመረምራል ።

በወርቅ ማዕድን ውስጥ የማጎሪያ ሬሾዎች

የሳይያኒዳሽን ማፍሰሻ ሂደት

1.In Stirred Tank Leaching

• የወርቅ ማውጣትን በሚያንቀሳቅሰው የታንክ ማጣሪያ ዘዴ ውስጥ፣ በማጣሪያ መፍትሄ ውስጥ ያለው የሶዲየም ሲያናይድ መደበኛ ክምችት ከ0.01% - 0.1% (w/v) ክልል ውስጥ ነው። ለምሳሌ፣ በብዙ ትላልቅ የወርቅ ማዕድን ማውጫዎች ውስጥ፣ አማካይ የወርቅ ይዘት እና ተስማሚ የማዕድን ባህሪያት ካላቸው ማዕድናት ጋር ሲገናኙ፣ ወደ 0.05% የሚጠጋ የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት ብዙውን ጊዜ ጥቅም ላይ ይውላል። ይህ ክምችት ወርቅን፣ ሶዲየም ሲያናይድን፣ ኦክስጅንን እና ውሃን በሚያካትት ኬሚካላዊ ምላሽ አማካኝነት የሚሟሟ ወርቅ - ሲያናይድ ውህዶችን በመፍጠር ወርቅን ለማሟሟት በቂ ነው።

• ትኩረቱን በዚህ ክልል ውስጥ በጥንቃቄ መጠበቅ ያስፈልጋል. ትኩረቱ በጣም ዝቅተኛ ከሆነ የወርቅ ማፍሰሻ ፍጥነት በከፍተኛ ሁኔታ ይቀንሳል, ይህም ረዘም ላለ ጊዜ የመፍሰሻ ጊዜ እና የወርቅ መልሶ ማግኛ መጠን ይቀንሳል. በሌላ በኩል, ትኩረቱ በጣም ከፍተኛ ከሆነ, ወጪን ከመጨመር በተጨማሪ ከፍተኛ የአካባቢ እና የደህንነት አደጋዎችን ያስከትላል.

2.በ Heap Leaching

• የክምር ማለስለስ በወርቅ ማዕድን ማውጣት ውስጥ ሌላው የተለመደ ዘዴ ነው፣ በተለይም ዝቅተኛ ደረጃ ላላቸው ማዕድናት። በክምር ማለስለስ ውስጥ ጥቅም ላይ የሚውለው የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት በአጠቃላይ ከተቀቀለ ታንክ ማለስለስ ጋር ሲነጻጸር ዝቅተኛ ነው፣ ብዙውን ጊዜ ከ0.005% - 0.03% (w/v) ክልል ውስጥ ነው። በማለስለስ እና በማለስለስ መፍትሄ መካከል ያለው ግንኙነት ከተቀቀለ ታንክ ማለስለስ ጋር ሲነጻጸር በአንጻራዊነት ልቅ ስለሆነ፣ የማለስለስ ሂደቱን ለመጀመር ዝቅተኛ ክምችት በቂ ነው ። ለምሳሌ፣ በአንዳንድ ክፍት-ጉድጓድ የወርቅ ማዕድን ማውጫዎች ውስጥ የማለስለስ ደረጃው ከ1-3 ግ/t አካባቢ ሲሆን፣ 0.01% ያህል የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት ሊተገበር ይችላል።

• ይሁን እንጂ እንደ ማዕድን ክምር መራባት፣ ሳይአንዲድ (እንደ መዳብ - ተሸካሚ ማዕድናት ያሉ) ሊፈጁ የሚችሉ ሌሎች ማዕድናት መኖር እና የአየር ንብረት ሁኔታዎች ከፍተኛውን ትኩረት ሊጎዱ ይችላሉ። ከፍተኛ የዝናብ መጠን ባለባቸው ክልሎች የሊኪው መፍትሄ ሊሟሟ ይችላል, ይህም የሶዲየም ሲያናይድ መጠንን በትክክል ማስተካከል ያስፈልገዋል.

በኤሌክትሮላይዜሽን ውስጥ የማጎሪያ ሬሾዎች

1.በመዳብ ሳያናይድ ንጣፍ

• በመዳብ ሳይአንዲድ ኤሌክትሮፕላቲንግ መታጠቢያዎች ውስጥ, ሶዲየም ሲያናይድ እንደ ውስብስብ ወኪል ሆኖ ያገለግላል. በእንደዚህ ዓይነት መታጠቢያዎች ውስጥ ያለው የሶዲየም ሲያናይድ መጠን ከ15 - 60 ግ / ሊ ይደርሳል. ለምሳሌ ለጌጣጌጥ ዓላማዎች በመደበኛ የመዳብ ሳይአንዲድ ኤሌክትሮፕላስቲንግ ሂደት ውስጥ, የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት ወደ 30 ግራም / ሊ ሊሆን ይችላል. ይህ ማጎሪያ የተረጋጋ መዳብ ለመመስረት ይረዳል - ሳያናይድ ውስብስቦች, ይህም substrate ላይ ናስ አንድ ወጥ ተቀማጭ አስፈላጊ ናቸው. መዳብ - ሳይአንዲድ ኮምፕሌክስ በካቶድ ውስጥ ይከፋፈላል, ይህም የመዳብ ions እንዲቀንሱ እና እንዲቀመጡ ያስችላቸዋል.

• የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት በጣም ዝቅተኛ ከሆነ, የመዳብ መረጋጋት - የሲያንዲን ውስብስብነት ይቀንሳል, ወደ ወጣ ገባ አቀማመጥ እና ደካማ - ጥራት ያለው ሽፋኖች. በተቃራኒው, ትኩረቱ በጣም ከፍ ያለ ከሆነ, ከመጠን በላይ ውስብስብነት ሊያስከትል ይችላል, ይህም ቀስ በቀስ የመቀማመጥ መጠን እና በሽፋኑ መጣበቅ ላይ ችግሮች ሊፈጠሩ ይችላሉ.

2.In ጎልድ Electroplating

• በወርቅ ኤሌክትሮፕላስቲንግ ውስጥ, ሶዲየም ሲያናይድ ውስብስብ የወርቅ ionዎችን ለመሥራት ያገለግላል. በወርቅ ኤሌክትሮፕላንት መታጠቢያዎች ውስጥ ያለው የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት በተወሰኑ የሂደቱ መስፈርቶች ላይ በመመርኮዝ በስፋት ሊለያይ ይችላል. ለቀጭ - የፊልም ወርቅ ኤሌክትሮፕላስቲንግ, የሶዲየም ሳይአንዲድ ክምችት በ 5 - 20 ግ / ሊ ውስጥ ሊሆን ይችላል. በአንዳንድ ሁኔታዎች ወፍራም የወርቅ ክምችት በሚያስፈልግበት ጊዜ, ትኩረቱ ወደ ላይ ሊስተካከል ይችላል, ነገር ግን በአጠቃላይ ከ 50 ግ / ሊ አይበልጥም.

• በወርቅ ኤሌክትሮፕላስቲንግ ውስጥ ያለው የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት የመቀማመጥ መጠን፣ የወርቅ ክምችት ንፅህና እና የተለጠፈው ንብርብር ገጽታ ላይ ተጽዕኖ ያሳድራል። እንደ ብሩህ, ለስላሳ እና የተጣበቀ የወርቅ ሽፋን የመሳሰሉ ተፈላጊውን የኤሌክትሮላይት ውጤቶች ለማግኘት ትክክለኛ ሚዛን ያስፈልጋል.

የማጎሪያ ጥምርታዎችን የሚነኩ ምክንያቶች

1. የኦር ወይም የንጥረ ነገር ተፈጥሮ

• በወርቅ ማዕድን ማውጫ ውስጥ የሶዲየም ሲያንዲድ ክምችትን በመወሰን ረገድ የማዕድን ስብጥር ትልቅ ሚና ይጫወታል። ከፍተኛ - የመዳብ፣ የዚንክ ወይም የሌላ ቤዝ ብረቶች ይዘት ያላቸው ማዕድናት በቆሻሻ ሂደቱ ወቅት ሲያናይድ ሊበሉ ይችላሉ። ለምሳሌ፣ መዳብ ከሳይያንይድ ጋር ምላሽ በመስጠት መዳብ - ሳይአንዲድ ውስብስቦችን ይፈጥራል፣ በዚህም ለወርቅ መሟሟት የሚገኘውን የነጻ ሳይያናይድ መጠን ይቀንሳል። በእንደዚህ ዓይነት ሁኔታዎች ውስጥ ለወርቅ ማውጣት በቂ ሳይአንዲን ለማረጋገጥ ከፍተኛ የመነሻ መጠን የሶዲየም ሲያናይድ መጠን ሊያስፈልግ ይችላል።

• በኤሌክትሮላይዜሽን ውስጥ, የንጥረቱ አይነት በሶዲየም ሳይያንዲድ ክምችት ላይም ተጽዕኖ ያሳድራል. የተለያዩ ብረቶች የተለያዩ የገጽታ ኬሚስትሪ አላቸው, እና አንዳንድ substrates የ cyanide መካከል የተወሰነ ማጎሪያ ሊያስፈልጋቸው ይችላል - መታጠቢያ የያዙ ጥሩ ታደራለች እና ልባስ ጥራት ለማሳካት. ለምሳሌ, በተወሰኑ ውህዶች ላይ በሚለብስበት ጊዜ, ከፍተኛ መጠን ያለው የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት በፕላስተር ንብርብር እና በንጥረ ነገሮች መካከል የተረጋጋ ትስስር ለመፍጠር ሊያስፈልግ ይችላል.

2.የሂደት ሁኔታዎች

• የሙቀት መጠን እና ፒኤች በማጎሪያ ሬሾዎች ላይ ተጽእኖ የሚያሳድሩ አስፈላጊ የሂደት ሁኔታዎች ናቸው. የወርቅ ሳይያንዲሽን በሚለቀቅበት ጊዜ መርዛማ ሃይድሮጂን ሳያንዳይድ ጋዝ (ኤች.ሲ.ኤን.) እንዳይፈጠር ለመከላከል በትንሹ የአልካላይን ፒኤች (ብዙውን ጊዜ 9 - 11 አካባቢ) ይጠበቃል። ፒኤች የሶዲየም ሲያናይድ መበታተን እና የብረቱን መረጋጋት ሊጎዳ ይችላል - የሳይያንድ ኮምፕሌክስ. ከፍ ያለ የሙቀት መጠን በሁለቱም የወርቅ መለቀቅ እና በኤሌክትሮፕላንት ላይ ያለውን የምላሽ መጠን ሊጨምር ይችላል፣ ነገር ግን የሳያንይድ ፍጆታን ይጨምራል። በአንዳንድ ሁኔታዎች ከፍ ያለ የሙቀት መጠን ከመጠን በላይ እንዳይፈጠር - ውስብስብነት ወይም ከልክ ያለፈ ምላሽ መጠን እንዲቀንስ የመጀመሪያውን የሶዲየም ሲያናይድ መጠን መቀነስ ሊያስፈልግ ይችላል።

• የኦክስጂን መገኘት በተለይም በወርቅ ማቅለጫ ላይ በማጎሪያ ሬሾዎች ላይ ተጽዕኖ ያሳድራል. የሚሟሟ ወርቅ እንዲፈጠር ኦክስጅን ለወርቅ ኦክሳይድ ያስፈልጋል - ሳይያንዲድ ኮምፕሌክስ። የሟሟ ኦክሲጅን በሊኪንግ መፍትሄ ውስጥ ያለው ክምችት ከሶዲየም ሲያናይድ ክምችት ጋር በተመጣጣኝ ሬሾ ውስጥ መሆን አለበት። በቂ ያልሆነ የኦክስጂን አቅርቦት የውሃ ማፍሰሻውን መጠን ሊገድበው ይችላል ፣ ነገር ግን ከመጠን በላይ ኦክሲጂን የሳይያንዳይድ ኦክሳይድን ወደ ዝቅተኛ - ውጤታማ ዝርያዎች ያስከትላል።

ትኩረትን በተመለከተ የደህንነት ግምት

1.የመርዛማነት አደጋዎች

• ሶዲየም ሳይአንዲድ እጅግ በጣም መርዛማ ነው, እና ትንሽ ትኩረትን የሚቀይሩ ለውጦች እንኳን በደህንነት ላይ ከፍተኛ ተጽእኖ ይኖራቸዋል. በስራ አካባቢ ውስጥ ያለው ከፍተኛ መጠን ያለው የሶዲየም ሲያናይድ መጠን ለመርዛማ ሃይድሮጂን ሳናይድ ጋዝ የመጋለጥ እድልን ይጨምራል ፣ ይህም ሶዲየም ሲያናይድ ከአሲድ ጋር ሲገናኝ ወይም በአንዳንድ የፒኤች ሁኔታዎች ውስጥ ሊለቀቅ ይችላል። በማንኛውም የሶዲየም ሲያናይድ ውህድ መፍትሄዎችን በሚይዙበት ጊዜ ሰራተኞች ጋዝን - ጥብቅ ልብሶችን ፣ መተንፈሻዎችን እና ጓንቶችን ጨምሮ ተገቢ የግል መከላከያ መሳሪያዎችን የታጠቁ መሆን አለባቸው ።

• በአጋጣሚ የሚፈሱ ወይም የሚንጠባጠቡ ከሆነ፣ በተፈሰሰው መፍትሄ ውስጥ ያለው የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት የአደጋውን መጠን ይወስናል። የአደጋ ጊዜ ምላሽ ዕቅዶች መደረግ አለባቸው፣ እና ተገቢውን የገለልተኝነት ወይም የማቆያ እርምጃዎች ወዲያውኑ መወሰድ አለባቸው። ለምሳሌ ፣ ከፍተኛ መጠን ያለው ሶዲየም ሳይናይይድ መፍትሄ በሚፈስበት ጊዜ ከፍተኛ መጠን ያለው ገለልተኛ ወኪል (እንደ ፒኤች ለማስተካከል እና የኤች.ሲ.ኤን.) እንዳይፈጠር ጠንካራ መሠረት ሊያስፈልግ ይችላል።

2.አካባቢያዊ ተጽእኖ

• ከኢንዱስትሪ ሂደቶች በሚወጣው ቆሻሻ ውሃ ውስጥ ያለው የሶዲየም ሲያናይድ ክምችት ጥብቅ ቁጥጥር ይደረግበታል። በቆሻሻ ውሃ ውስጥ ያለው ከፍተኛ መጠን ያለው ሶዲየም ሲያናይድ ለውሃ ህይወት እና ለአካባቢው በጣም ጎጂ ሊሆን ይችላል። ትክክለኛ የሕክምና ዘዴዎች, እንደ ኬሚካላዊ ኦክሳይድ (እንደ አልካላይን ክሎሪን ሂደትን የመሳሰሉ ዘዴዎችን በመጠቀም) ሳይአንዲን ወደ ዝቅተኛ - መርዛማ ቅርጾች, አስፈላጊ ናቸው. የእነዚህ የሕክምና ዘዴዎች ውጤታማነት በቆሻሻ ውሃ ውስጥ ባለው የሶዲየም ሲያናይድ የመጀመሪያ ደረጃ ላይ ተጽዕኖ ሊያሳድር ይችላል። ከፍተኛ - ትኩረትን የሚስብ ቆሻሻ ውሃ የአካባቢን የመልቀቂያ ደረጃዎችን ለማሟላት ተጨማሪ የሕክምና እርምጃዎችን ወይም ከፍተኛ መጠን ያለው የሕክምና ኬሚካሎችን ሊፈልግ ይችላል።

መደምደሚያ

በሶዲየም ሲያናይድ አፕሊኬሽኖች ውስጥ በተለይም በወርቅ ማዕድን እና በኤሌክትሮፕላንት ውስጥ ያለው የማጎሪያ ሬሾዎች በበርካታ ሁኔታዎች ላይ ተመስርተው በጥንቃቄ ይወሰናሉ. እነዚህ ነገሮች እየተቀነባበሩ ያሉ ቁሳቁሶች ባህሪ፣ የሂደቱ ሁኔታዎች እና የደህንነት እና የአካባቢ ግምትን ያካትታሉ። ከፍተኛውን የሂደት አፈፃፀም ለማሳካት፣ የሰራተኛ ደህንነትን ለማረጋገጥ እና የአካባቢ ተፅእኖን ለመቀነስ የሶዲየም ሲያናይድ ክምችትን በትክክል መቆጣጠር አስፈላጊ ነው። ሶዲየም ሲያናይድ የሚጠቀሙ ኢንዱስትሪዎች የተለያዩ ሂደቶችን መስፈርቶች ለማሟላት እና የደህንነት እና የአካባቢ ደንቦችን ለማክበር የማጎሪያ ጥምርታዎችን በተከታታይ መከታተል እና ማስተካከል አለባቸው።