엄밀히 말하면 시안화 공정은 광물 처리 범주에 속하지 않고 습식 제련으로 분류되어야 합니다. 시안화 공정은 전 세계적으로 금을 추출하는 가장 일반적인 방법입니다. 이 공정의 원리는 시안화 이온 이 유리 금과 착물을 형성하여 금 시안화물을 생성함으로써 금을 용해시키는 것입니다 . 자연에서 금은 자유로운 상태로 존재하며, 다른 광물에 캡슐화되어 있더라도 노출되면 여전히 원소 금으로 남아 있습니다. 따라서 시안화 공정을 이용한 금 추출의 효율성(회수율)은 캡슐화된 금을 얼마나 잘 분리해낼 수 있는지에 달려 있다고 할 수 있습니다.
CIL(Carbon In Leach) 침출 공정은 금 추출을 위한 탄소 침출이라고도 하며, 펄프에 활성탄을 첨가하고 침출과 금 흡착을 동시에 수행하는 공정입니다. 이를 통해 CIP(Carbon In Pulp) 공정에서 발견되는 펄프의 시안화물 침출과 활성탄 흡착의 두 단계를 하나의 단계로 간소화하여 손실을 줄이는 동시에 관리 비용을 낮출 수 있습니다. 기존의 CCD 공정과 비교했을 때 투자 비용을 66% 절감하여 현대 금광석 처리에 선호되는 공정이 되었습니다. 탄소 펄프 공정에서 "탄소"와 "펄프"는 일반적으로 생각하는 탄소의 현탁액이 아니라 각각 활성탄과 미네랄 펄프를 의미합니다. 활성탄을 도입하는 시기에 따라 침출 후 흡착하는 공정을 탄소 펄프법(CIP)이라고 하며, 침출과 흡착을 동시에 하는 것을 탄소 침출법(CIL)이라고 합니다. 생산 장비를 보다 효과적으로 활용할 수 있기 때문에 점점 더 많은 시안화물 공장에서 이 방법을 채택하고 있습니다. 주요 장점으로는 펄프 세척 및 고체-액체 분리가 필요 없으며, 과립 활성탄을 직접 사용하여 펄프에서 금을 흡착하고 침출수의 세척, 고체-액체 분리 및 정화, 탈기 및 아연 대체 작업을 대체하는 것이 있습니다. 이를 통해 산업 생산 공정이 크게 간소화되고 효율성이 향상되며 장비 및 인프라 투자가 크게 줄어듭니다.

시안화 공정에는 엄격한 분쇄 정밀도가 요구됩니다.
일반적인 금을 함유한 석영 맥 산화 광석의 경우, 금을 함유한 광물의 부유성이 좋지 않기 때문에 부유 방법을 사용하여 좋은 광물 처리 지표를 얻는 것이 일반적으로 어렵습니다. 그러나 탄소 펄프 공정을 활용하면 최소한의 유해 불순물 조건에서 93% 이상의 총 회수율을 달성할 수 있습니다.
앞서 언급했듯이, 사이안화 공정의 효과는 캡슐화된 금을 방출하는 능력에 따라 달라지므로, 탄소 펄프 공장의 준비 작업에서 분쇄가 특히 중요합니다. 일반적인 탄소 펄프 공장에서 사이안화에 적합한 분쇄 미립도는 일반적으로 재료의 80-95%가 -0.074mm보다 미세해야 합니다. 광물이 분산되어 분포하는 일부 광산에서는 95% 이상이 -0.037mm보다 미세해야 할 수도 있습니다. 이는 탄소 펄프 공장에서 단일 분쇄 단계에서 필요한 미립도를 달성하는 것이 매우 어렵고, 종종 두 단계 또는 세 단계의 분쇄가 필요하다는 것을 나타냅니다.
분쇄 농도 제어는 주로 공급수량, 광석 공급량, 복귀 모래 비율을 조정하여 달성합니다. 분쇄 농도가 너무 높으면 공급수량을 늘리고 2단계 폐쇄 회로 분쇄 공정에서 광석 공급량을 줄이고 복귀 모래 비율을 높여야 하며 그 반대의 경우도 마찬가지입니다. 오버플로 농도 제어는 오버플로 공급수량, 오버플로 웨어 높이, 입구 및 출구 크기, 오버플로 출구 크기를 조정하여 관리할 수 있습니다. 오버플로 미세도 제어에는 오버플로 웨어 높이, 오버플로 출구 크기, 강철 볼의 양과 비율, 분쇄 농도, 오버플로 농도를 조정해야 합니다.
요약하자면, 연삭 작업의 모든 기술적 매개변수는 상호 연관되어 있고, 보완적이며, 상호 제한적입니다. 따라서 조정 및 제어 프로세스 동안 포괄적이고 조정된 접근 방식을 취해야 합니다.
가수분해 방지 시안화물 매우 중요하다.
일반적으로 사용하는 시안 화물 (시안화칼륨, 시안화나트륨 , 시안화칼슘)은 모두 강염기이자 약산염으로, 물에서 가수분해되어 시안화수소를 생성하며, 이는 펄프 내 시안화이온 농도에 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 침출 과정에서 시안화물의 가수분해를 방지하는 것이 매우 중요합니다. 가장 효과적인 방법은 수산화이온 농도를 높이는 것인데, 이를 일반적으로 pH 값 증가라고 합니다. 산업계에서 가장 경제적인 pH 조절제는 석회이지만, 석회는 pH 조절 과정에서 응집을 일으킬 수 있습니다. 따라서 석회는 분쇄 공정 중에 첨가하여 충분히 분산되도록 합니다. 시안화물 침출 과정에서는 시안화물의 분해를 방지하기 위해 용액의 알칼리도를 일정하게 유지해야 하지만, 알칼리도가 너무 높으면 금의 용해 속도가 저하될 수 있으므로 주의해야 합니다.
침출 시간이 증가함에 따라 금 침출 속도가 향상되지만, 특정 지점 이후에는 침출 시간을 더 연장해도 금 침출 속도가 크게 증가하지 않습니다. 따라서 효과적인 금 침출을 보장하기 위해 시안화물 침출 중 특정 침출 시간을 보장하는 것이 필수적입니다. 일반적으로 탄소 펄프 작업 중 pH 값은 10~11 사이일 때 가장 효과적입니다.
펄프 농도를 조절하는 것은 시안화 공정의 핵심적인 측면입니다.
금과 시안화물이든 금 시안화물과 활성탄이든, 충분한 접촉은 좋은 광물 가공 지표를 얻는 데 필요하며, 이는 펄프 농도에 대한 높은 요구를 합니다. 농도가 너무 높으면 활성탄 표면에 쉽게 침전될 수 있고, 너무 낮으면 쉽게 침전될 수 있습니다. 또한 적절한 pH 값과 시안화물 농도를 유지하기 위해 많은 양의 시약을 첨가해야 합니다. 시안화물을 선택할 때는 금을 용해하는 상대적 능력, 안정성, 금 용해에 대한 불순물의 영향과 같은 요소를 고려해야 합니다.
수년간의 생산 관행을 거쳐 탄소 펄프 금 추출을 위한 농도 40-45%와 시안화물 농도 300-500ppm이 더 적합하다고 믿어집니다. 그러나 앞서 언급했듯이 분쇄에는 일반적으로 20~XNUMX단계의 작업이 필요하며 최종 제품 농도는 일반적으로 XNUMX% 미만입니다. 따라서 침출 작업에 들어가기 전에 펄프는 농축 공정을 거쳐야 합니다.
침출 공정 중 시안화나트륨 농도 제어는 다음 원칙을 따라야 합니다. 금 용해 효율을 확보하면서, 모든 연속 침출조에서 시안화나트륨 농도가 일정하도록 적절히 농도를 낮추거나, 앞쪽 침출조의 시안화나트륨 농도를 뒤쪽 침출조보다 높게 유지해야 합니다. 각 침출조에서 제어되는 시안화나트륨 농도의 변동 범위가 작을수록 좋습니다. 전체 침출조 수 대비 시안화나트륨을 첨가하는 침출조의 비율이 높을수록 바람직합니다. 수산화나트륨 농도를 더 자주 측정하는 것은 조업 기술 조건을 제어하는 데 도움이 됩니다. 시안화나트륨은 일반적으로 각 탱크에 약 10% 농도로 첨가됩니다.

시안화물 침출 공정의 기본 메커니즘

위의 공식에서 시안화 공정은 산소가 필요한 공정이라는 것을 알 수 있는데, 생산 중에 산소를 도입하면 침출 속도가 빨라질 수 있기 때문이다. 물론 과산화수소와 같은 산화제를 적절히 첨가할 수도 있지만, 과도한 산화제는 시안화물에서 시안산염 이온을 형성할 수 있으며, 이는 침출 공정에 이롭지 않다.
공식에서 우리는 또한 1몰의 금이 착물화를 위해 2몰의 시안화물만 필요하다는 것을 알 수 있습니다. 질량 측면에서 약 1g의 금은 침출제로 0.5g의 시안화물이 필요합니다. 그러나 실제 생산에서는 시안화물과 착물화 반응을 일으킬 수 있는 은, 구리, 납, 아연과 같은 다른 광물의 영향으로 인해 시약의 투여량은 계산에만 국한되어서는 안 됩니다. 최종 침출 속도에 따라 조정해야 하며 광석 특성이 변경될 때 조정을 추적해야 합니다. 일반적으로 계산된 값보다 200~500배 높은 범위가 합리적인 것으로 간주됩니다. 요약하자면 펄프에서 시안화물 이온의 농도를 보장하는 것은 좋은 지표를 얻는 데 필요한 조건입니다.
적재된 탄소에 흡착된 금이 3000g/t를 초과하면 전체 탄소 펄프 흡착 프로세스가 완료된 것으로 간주합니다. 그러나 구리와 은의 불순물이 높은 광석도 활성탄의 흡착 용량에 영향을 미쳐 금이 적재된 탄소가 예상 목표를 충족하지 못할 수 있습니다. 활성탄에 더 이상 흡착 용량이 없으면 포화된 것으로 간주합니다. 포화된 활성탄의 경우 금을 얻기 위해 탈착 및 전기 분해가 필요합니다. 그러나 이후의 작업은 더 복잡하고 더 큰 투자가 필요합니다. 금 생산 밀도가 높은 지역에서는 금이 적재된 탄소를 이익을 위해 판매하거나 더 간단한 방법은 연소하여 금을 얻는 것입니다.
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